蒸鍍反(fan)射鏡
- 産(chǎn)品概述
- 性能(neng)特點
- 技術參(can)數
蒸鍍的物理(lǐ)過程包括:沉(chén)積材料蒸發(fa)或升華爲氣(qi)态粒子♍→氣态(tai)粒子快速從(cóng)蒸發源向基(ji)片表面輸送(song)→氣态粒子附(fù)着在基片表(biǎo)面形核、長大(da)成固體薄膜(mo)→薄膜原子重(zhong)構或産生化(hua)學鍵合。
将基片(piàn)放入真空室(shì)内,以電阻、電(dian)子束、激光等(deng)方法✂️加熱膜(mó)👅料,使膜料蒸(zhēng)發或升華,氣(qi)化爲具有一(yi)定能量(0.1~0.3eV)的粒(lì)子(原子㊙️、分子(zi)或原子團)。氣(qi)态粒子以基(ji)本無碰撞的(de)直線運動飛(fei)速傳送至基(jī)片,到達基片(pian)表面的粒子(zi)一🔴部分被反(fǎn)射,另一部分(fen)吸附在基片(pian)上并發生表(biǎo)面擴散,沉積(ji)原子之間産(chan)生二維碰撞(zhuàng),形成🏃♂️簇團,有(you)的可能在表(biǎo)面短時停留(liú)後又蒸發。

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